Для бизнеса, ищущего новые возможности в半导体行业，中国28nm光刻机的崛起为利用先进且成本效益高的技术提供了重大机会。随着ASML的主导地位受到中国进步的挑战，全球公司现在可以访问高质量的微芯片生产，而无需传统ASML极紫外（EUV）机器所需的巨额投资。这些中国机器较低的成本为更广泛的公司打开了进入微芯片制造空间的大门，尤其是那些因传统光刻设备高昂成本而被排除在外的公司。
中国成功的核心在于多年在半导体研发上的大量投资。28nm机器只是更大战略的一部分，这些机器已经在全球市场引起了重大颠覆。通过使用深紫外线（DUV）光刻技术，中国的技术可以生产密度高达每平方厘米2亿个晶体管的微芯片，这与ASML的机器相当。主要区别在于成本——中国的机器便宜得多，从2000万美元到5000万美元不等，而ASML的机器超过1亿美元。这种成本效益技术已经让ASML、尼康和佳能感受到压力，因为它们的市场份额在面对竞争时逐渐萎缩。
中国专注于半导体生产的自给自足，导致了诸如SMIC开发的完全国产28nm工艺等突破。这一成就消除了对外国技术的依赖，进一步巩固了中国在市场中的地位。这些发展的影响是巨大的，因为它标志着半导体行业权力动态的转变。随着继续推进7nm和5nm技术，中国在光刻和微芯片生产中的作用将变得越来越重要，挑战长期占主导地位的行业领导者适应或落后。